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一站式阴影微球刻蚀技术实现方案

One-Stop Solutions to 

Shadow Sphere Lithography (SSL)

产品介绍

高均一聚苯乙烯（Polystyrene）微球

100 - 2000 nm微球尺寸全覆盖

特性:   

  • 尺寸高均一，分散系数CV < 3%。不同批次直径误差< 10 nm
  • 自动化智能设备合成，保证质量重复性
  • 每一批都经过扫描电子显微镜、动态光散射，保证参数准确可信
  • 特别适用于胶体晶体自组装，每一批都经过自组装实验，可形成高质量胶体晶体


高有序大面积单层胶体晶体基片

100 - 2000 nm微球尺寸全覆盖

特性:   

  • 基底材料多样，玻璃、硅片、PDMS、PET及其它平面曲面不与水作用的基底
  • 基底尺寸灵活，可形成大于10 cm高有​序晶
  • 单晶区域可大于1 cm
  • 自动化智能设备组装，保证质量重复性

胶体晶体自组装机

100 - 2000 nm尺寸全覆盖

特性:   

  • 一键式简易操作，实时监测、智能反馈
  • 自组装质量高可控、高重复 
  • 适用不同尺寸和不同基底材料和尺寸
  • 软件和配方在线升级

SSL图案生成模拟软件


特性:   

  • 操作界面友好直观，易学习
  • 基底和微球上结构计算，易提取和再操作，易与其它软件联用
  • 多参数（周期、直径、入射角、方位角、厚度、蒸镀次数）可调

国际学术影响​

自研智能生产​

专业技术服务​

About Us

重庆超艾纬来科技有限责任公司坚持产学研相结合的发展模式，旨在通过紧密的学术合作和实践应用，推动技术革新和产业进步。我们提供全面的阴影微球刻蚀技术解决方案，包括但不限于原料供应、先进设备、精密装置、软件支持、仿真分析和系统整合服务，致力于为客户提供一站式、高保障、高可靠的技术支持和服务。

科研创新实力​

具备自主研发的生产工艺和智能化设备，拥有自主知识产权。这些先进技术确保了产品质量的可靠性和重复性。我们还能提供实时、专业和可靠的技术指导、服务和保障，以满足客户的多样化需求。

汇集业界资深专家与高校顶尖科研人员，专注于实验室自研产品的开发与应用。公司产品支撑的研究成果频繁发表于国际知名科学期刊，具有在阴影微球刻蚀技术等前沿领域的领先实力和创新精神。

关于我们